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沸石转轮加催化燃烧装置 吸附脱附催化燃烧设计原理*、用材独特,性能稳定,结构简便,可靠,节能省力,无二次污染。设备占地面积小,重量轻。吸附床采用抽屉式结构,装填方便,便于更换, 自动控制系统的信号检测器设置于出气口处,对出气口的废气浓度进行自动检测,并将浓度数据传输给PLC控制器,PLC控制器根据传输数据发出控制指令,控制进气口上的进气阀门和催化燃烧进气阀门的自动开启、闭合,通过对活性炭吸附层的实时脱附实现活性炭吸附层的连续净化。为保证生产的连续运行,设有两套吸附脱附装置交替使用。 针对催化燃烧废气特点,首*行分类收集,先用设备对工艺产生的烟气进行处理,在多功能塔内对废气进行喷淋吸收,废气除味剂、吸收液、化工废气除臭剂与其进行充分反应,对VOCs气体进行一定的分解处理,在末端尾气处理器上,用有机废气催化剂进行光解催化氧化反应,对化工臭气进行催化裂解处理,对苯类尾气进行冷凝回收,整个除臭装置工艺设计合理,废气治理设施运行记录标明,净化效率一直保持在99%以上。对环境的污染治理有很大的帮助!
车间废气处理设备 在用多孔性固体物质处理流体混合物时,流体中的某一组分或某些组分可被吸表面并浓集其上,此现象称为吸附。吸附处理废气时,吸附的对象是气态污染物,气固吸附。被吸附的气体组分称为吸附质,多孔固体物质称为吸附剂。固体表面吸附了吸附质后,一部被吸附的吸附质可从吸附剂表面脱离,此现附。 车间废气处理设备 从理论上讲,只要半导体吸收的光能不小于其带隙能,就足以激发产生电子和空穴,该半导体就有可能用作光催化剂,常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或硫化物,如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。这些催化剂各自对特定反应有突出优点,具体研究中可根据需要选用,如CdS半导体带隙能较小,跟太阳光谱中的近紫外光段有较好的匹配性能,可以很好地利用自然光能,但它容易发生光腐蚀,使用寿命有限。相对而言,Ti02的综合性能较好,是广泛使用和研究的单一化合物光催化剂。
VOC废气处理设备 反应塔内装填特制的固态填料,填料内部复配多介质催化剂。当恶臭气体在引风机的作用下穿过填料层,与通过特制喷嘴呈发散雾状喷出的液相复配氧化剂在固相填料表面充分接触,并在多介质催化剂的催化作用下,恶臭气体中的污染因子被充分分解。适用范围:适用范围广,尤其适用于处理大气量、中高浓度的废气,对疏水性污染物质有很好的去除率。优点:占地小,投资低,运行成本低;管理方便,即开即用。缺点:耐冲击负荷,不易污染物浓度及温度变化影响,需消耗一定量的药剂。 低温等离子体是继固态、液态、气态之后的物质第四态,当外加电压达到气体的着火电压时,气体分子被击穿,产生包括电子、各种离子、原子和自由基在内的混合体。放电过程中虽然电子温度很高,但重粒子温度很低,整个体系呈现低温状态,所以称为低温等离子体。低温等离子体降解污染物是利用这些高能电子、自由基等活性粒子和废气中的污染物作用,使污染物分子在极短的时间内发生分解,并发生后续的各种反应以达到降解污染物的目的。
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橡胶厂废气处理设备运用特别制作的较高能高活性氧UV紫外光光线直射废气,裂化工业生产废气的分子结构链构造,使有机化学或无机物高分子材料恶臭味化学物质分子结构链,在较高能紫外光光线直射下,溶解转化成低分子结构化学物质CO2、H2O等。有高压低压静电感应式、纯髙压静电感应式2种,适用各种工业化生产生产车间造成的厨房油烟、焊接烟尘、废气及烟尘整治。在静电感应过滤控制模块后端开发,大家会依据具体必须,为您配备HEPA过滤装置、活性炭过滤器器、光氧催化催化燃烧过滤装置等,用以更标准化的空气污染源或刺激味道的清洁整治。 橡胶厂废气处理设备 资料显示,治理恶臭废气的核心技术是静电等离子废气治理技术,辅助技术是酸碱洗涤技术和生物膜过滤技术。静电等离子技术是静电技术与等离子技术的完美结合的复合技术,将静电技术的吸附和凝聚特性与等离子技术的荷电和裂解特性有机组合,形成了静电等离子技术的四大技术优势:荷电、裂解、吸附和凝聚,而废气的净化就是这四种特性共同作用完成的。 含硫废气因其成分特殊,能同空气中的水结合形成酸性物质,引发酸雨;而酸雨会对植物、建筑以及人体造成损害,尤其会影响人的呼吸道;另外,还会对土壤和水源造成影响,造成二次污染。针对含硫废气处理,主要有湿法脱硫和干法脱硫。其中,干法脱硫是使用粉状、粒状吸收剂,吸附剂或催化剂去除废气中的80%。而湿法脱硫是采用液体吸收剂如水或械溶液洗涂含S02的烟气,通过吸收去除其中的S02。 采用低温等离子催化技术+纳米技术,在水中产生大量羟基自由基氧化分解大量有机废气,其终生算作物是CO2、H2O和无害羧酸。氧化催化剂为贵金属氧化物,氧化剂在催化剂的浸染下,发生氧化性*的羟基自由基(OH),这些自由基可分化几乎所有有机物,将其所含的氢(H)和碳(C)氧化算作水和二氧化碳。除电耗、水耗外,不用耗其他原料,不带来二次污染,无需二次措置。